Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)是一個(gè)緊湊且靈活的PVD（物理氣相沉積）系統(tǒng)，具備薄膜、納米顆粒和合金沉積能力。該系統(tǒng)有兩種型號(hào)：375型（最多可容納五個(gè)源，基底直徑可達(dá)四英寸）和300型（最多可容納四個(gè)源，基底直徑可達(dá)兩英寸）。由于其體積相對(duì)較小，真空腔體的抽真空速度較快，周轉(zhuǎn)時(shí)間約為30分鐘。

Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)可兼容多種源，包括磁控濺射源、納米顆粒源、小型電子束源、熱舟源以及原子和離子源。系統(tǒng)可以配置為向上濺射或向下濺射模式。此外，還提供基底旋轉(zhuǎn)、偏壓以及最高可達(dá)800℃的加熱選項(xiàng)。

真空腔體在英國制造，采用高質(zhì)量的304不銹鋼材質(zhì)，并配有輕質(zhì)鋁制門。它安裝在一個(gè)系統(tǒng)機(jī)架上，該機(jī)架包含控制系統(tǒng)、電源和真空泵。整個(gè)系統(tǒng)配備輪子以便移動(dòng)，并在定位后可鎖定腳部以固定位置。

集成的PC和多功能Spectrum軟件提供了無縫的用戶體驗(yàn)，使客戶能夠遠(yuǎn)程控制該系統(tǒng)并運(yùn)行復(fù)雜的工藝配方。

關(guān)鍵特性：

·         可用的源包括磁控濺射源、納米粒子源、小型電子束源、熱舟蒸發(fā)源、原子源和離子源。

·         提供向上濺射或向下濺射配置。

·         提供旋轉(zhuǎn)、偏壓以及高達(dá)800℃的加熱選項(xiàng)。

·         周轉(zhuǎn)時(shí)間約為45分鐘。

·         真空度可達(dá)5×10??托。

·         系統(tǒng)機(jī)架包含控制系統(tǒng)、電源和泵。

·         集成的個(gè)人電腦配備Spectrum軟件，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化過程控制、復(fù)雜配方和數(shù)據(jù)記錄。

The Cube系統(tǒng)配置：